나노소재 전문기업 석경에이티가 지난 1월 28일부터 30일까지 일본 도쿄에서 열린 ‘도쿄 나노텍 2026’ 전시회에 참가해 자사의 핵심 나노소재 기술을 선보였다고 3일 밝혔다.
이번 전시회는 신기능성재료, GREEN MATERIALS, CONVERTECH, 3DECOtech, WELL-BEING TECHNOLOGY 등 5개 전시회가 동시에 개최된 대규모 소재 전문 행사로, 총 377개 업체가 참가했으며 3일간 4만5,202명의 방문객이 현장을 찾았다.
석경에이티는 ▲5G·6G mmWave용 Hollow SiO2 ▲저굴절 Hollow SiO2 ▲LED 광확산 필름용 Hollow SiO2 ▲고굴절 소재 ▲Perovskite용 SnO2 ▲10nm~5μm 입자 크기의 SiO2 소재 등 다양한 제품을 전시했다. 특히 Hollow SiO2는 입자 크기별 적용 영역을 세분화한 포트폴리오를 소개하며 차별화된 경쟁력을 강조했다. 40~130nm 구간은 저굴절, 40~300nm는 단열, 700nm~1.5μm는 광확산, 300nm~2μm는 저유전 소재로 활용 가능하다.
전시 기간 동안 Nikko Chemicals, NSCM, DNP, Canon, Nippon Rika 등 일본 주요 소재·제조 기업들과 다수의 미팅이 진행됐으며, 일부 기업과는 추가 기술 검토 및 협의가 예상된다. 부스 방문객 수는 지난해 일본관 기준 대비 두 배 이상 증가했다.
방문객들은 Hollow SiO2의 단분산 제조 기술과 표면 처리, 중공도 조절 기술의 완성도를 높게 평가했으며, 디스플레이 업체를 중심으로 저굴절 및 고굴절 소재에 대한 문의가 이어졌다. 또한 반도체 Packaging 소재용 대구경 Silica 제품에 대한 관심도 높았다.
석경에이티는 22년 연속 일본 나노텍 전시회에 참가하며 브랜드 인지도를 쌓아 왔으며, 경쟁사들로부터도 기술 수준과 양산 현황에 대한 문의가 증가하고 있다고 전했다.
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Seokyung AT to Participate in Tokyo Nanotech 2026 Exhibition
Seokyung AT, a nanomaterials specialist, announced on the 3rd that it participated in the 'Tokyo Nanotech 2026' exhibition held in Tokyo, Japan from January 28th to 30th and showcased its core nanomaterials technology.
This exhibition is a large-scale materials specialized event that holds five exhibitions simultaneously, including New Functional Materials, GREEN MATERIALS, CONVERTECH, 3DECOtech, and WELL-BEING TECHNOLOGY. A total of 377 companies participated, and 45,202 visitors visited the site over the three days.
Seokyung AT exhibited various products, including ▲ Hollow SiO2 for 5G/6G mmWave ▲ Low-refractive Hollow SiO2 ▲ Hollow SiO2 for LED light diffusion film ▲ High-refractive material ▲ SnO2 for Perovskite ▲ SiO2 material with particle sizes of 10 nm to 5 μm. In particular, Hollow SiO2 emphasized its differentiated competitiveness by introducing a portfolio that segments the application areas by particle size. The 40 to 130 nm range can be used for low refractive index, 40 to 300 nm for insulation, 700 nm to 1.5 μm for light diffusion, and 300 nm to 2 μm for low-k materials.
During the exhibition, numerous meetings were held with major Japanese materials and manufacturing companies, including Nikko Chemicals, NSCM, DNP, Canon, and Nippon Rika. Additional technical reviews and discussions are expected with some of these companies. Booth visitor numbers more than doubled compared to last year's Japan Pavilion.
Visitors highly praised the monodisperse manufacturing technology for Hollow SiO2, as well as the advanced surface treatment and hollowness control technologies. Inquiries about low- and high-refractive-index materials continued, particularly from display manufacturers. Interest in large-diameter silica products for semiconductor packaging applications was also high.
Seok Kyung AT has been building its brand awareness by participating in the Japan Nanotech Exhibition for 22 consecutive years, and has also reported that inquiries from competitors regarding its technological level and mass production status are increasing.
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ソクギョンエイティ、「東京ナノテック2026展」に参加
ナノ素材専門企業の石硬エーティが1月28日から30日まで日本東京で開かれた「東京ナノテック2026」展示会に参加し、同社の核心ナノ素材技術を披露したと3日明らかにした。
今回の展示会は新機能材料、GREEN MATERIALS、CONVERTECH、3DECOtech、WELL-BEING TECHNOLOGYなど5つの展示会が同時に開催された大規模素材専門イベントで、合計377社が参加し、3日間4万5,202人の訪問者が現場を訪れた。
석경에이티는 ▲5G・6G mmWave用 Hollow SiO2 ▲低屈折 Hollow SiO2 ▲LED光拡散フィルム用 Hollow SiO2 ▲高屈折素材 ▲Perovskite用SnO2 ▲10nm～5μm粒径のSiO2素材など様々な製品を展示した。特にHollow SiO2は、粒径別適用領域を細分化したポートフォリオを紹介し、差別化された競争力を強調した。 40～130nm区間は低屈折、40～300nmは断熱、700nm～1.5μmは光拡散、300nm～2μmは低誘電材料として活用可能である。
展示期間中、Nikko Chemicals、NSCM、DNP、Canon、Nippon Rikaなど日本の主要素材・製造企業と多数のミーティングが行われ、一部企業とはさらなる技術検討及び協議が予想される。ブース訪問客数は昨年日本観基準に比べて倍以上増加した。
訪問者は、ホロウSiO2の単分散製造技術と表面処理、中空度調整技術の完成度を高く評価した。また、半導体Packaging素材用大口径Silica製品に対する関心も高かった。
ソクギョンエイティは22年連続で日本のナノテック展に参加し、ブランド認知度を築いてきた。
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Seokyung AT 将参加 2026 年东京纳米技术展
纳米材料专家 Seokyung AT 于 3 日宣布，该公司参加了 1 月 28 日至 30 日在日本东京举行的“东京纳米技术 2026”展览会，并展示了其核心纳米材料技术。
本次展会是一场大型材料专业盛会，同时举办五大主题展，包括新型功能材料、绿色材料、可转换材料、三维生态材料和健康科技。共有377家企业参展，三天展会期间共吸引了45202名观众。
Seokyung AT展出了多种产品，包括▲用于5G/6G毫米波的空心二氧化硅▲低折射率空心二氧化硅▲用于LED光扩散膜的空心二氧化硅▲高折射率材料▲用于钙钛矿的二氧化锡（SnO2）▲粒径为10 nm至5 μm的二氧化硅材料。其中，空心二氧化硅产品通过按粒径划分应用领域，突出了其差异化竞争力。40至130 nm粒径范围可用于低折射率应用，40至300 nm粒径范围可用于绝缘应用，700 nm至1.5 μm粒径范围可用于光扩散应用，300 nm至2 μm粒径范围可用于低介电常数（低k）材料。
展会期间，与多家日本主要材料和制造企业举行了会谈，包括日兴化学、NSCM、DNP、佳能和日本理化。预计还将与其中一些企业进行进一步的技术评审和讨论。展位参观人数比去年日本馆增加了一倍以上。
参观者对空心二氧化硅的单分散制造技术以及先进的表面处理和空心率控制技术给予了高度评价。关于低折射率和高折射率材料的咨询持续不断，尤其是来自显示器制造商的咨询。用于半导体封装的大直径二氧化硅产品也引起了广泛关注。
Seok Kyung AT 已连续 22 年参加日本纳米技术展览会，以此提升品牌知名度，并表示竞争对手对其技术水平和量产状况的询问也越来越多。
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Seokyung AT participera au salon Tokyo Nanotech 2026.
Seokyung AT, spécialiste des nanomatériaux, a annoncé le 3 qu'elle participait à l'exposition « Tokyo Nanotech 2026 » qui s'est tenue à Tokyo, au Japon, du 28 au 30 janvier et y a présenté sa technologie de base en matière de nanomatériaux.
Ce salon, dédié aux matériaux, est un événement d'envergure qui réunit simultanément cinq expositions : Nouveaux Matériaux Fonctionnels, Matériaux Verts, CONVERTECH, 3DECOtech et Technologies du Bien-être. Au total, 377 entreprises y ont participé et 45 202 visiteurs se sont rendus sur le site durant les trois jours.
Seokyung AT a présenté divers produits, notamment : ▲ SiO₂ creux pour ondes millimétriques 5G/6G ▲ SiO₂ creux à faible indice de réfraction ▲ SiO₂ creux pour films de diffusion de lumière LED ▲ Matériau à indice de réfraction élevé ▲ SnO₂ pour pérovskite ▲ Matériau SiO₂ avec des particules de 10 nm à 5 μm. En particulier, le SiO₂ creux a mis en avant sa compétitivité différenciée grâce à une gamme segmentée par taille de particules. La plage de 40 à 130 nm convient aux applications à faible indice de réfraction, celle de 40 à 300 nm à l’isolation, celle de 700 nm à 1,5 μm à la diffusion de lumière et celle de 300 nm à 2 μm aux matériaux à faible constante diélectrique (low-k).
Durant le salon, de nombreuses réunions ont eu lieu avec d'importantes entreprises japonaises des secteurs des matériaux et de la fabrication, notamment Nikko Chemicals, NSCM, DNP, Canon et Nippon Rika. D'autres échanges et analyses techniques sont prévus avec certaines de ces entreprises. La fréquentation du stand a plus que doublé par rapport à l'édition précédente du pavillon japonais.
Les visiteurs ont particulièrement apprécié la technologie de fabrication monodisperse du SiO2 creux, ainsi que les technologies avancées de traitement de surface et de contrôle de la porosité. Les demandes d'informations sur les matériaux à faible et à fort indice de réfraction se sont poursuivies, notamment de la part des fabricants d'écrans. L'intérêt pour les produits en silice de grand diamètre destinés aux applications d'encapsulation de semi-conducteurs était également important.
Seok Kyung AT a renforcé sa notoriété en participant au Salon japonais des nanotechnologies pendant 22 années consécutives et a également indiqué que les demandes de renseignements de ses concurrents concernant son niveau technologique et son statut de production de masse sont en augmentation.
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