キウォンテック、ハイパーエクセル-庭園エンシスと業務協約締結

国際標準電子メールセキュリティ専門企業起源テック(代表キム・ドンチョル)が生成AI加速半導体専門企業ハイパーエクセル(代表キム・ジュヨン)、ITシステム統合専門企業定員エンシス(代表ハン・ドクヒ)と18日ソウル江南区庭園エンシス2階大会議室で次世代AI生態系構築のための業務発表した。

今回の条約の核心は、起源テックの生成型AIベースの苦情分析ソリューション「苦情e」を中心に、ハイパーエクセルの世界初のLLM特化半導体LPUを適用してGPU+LPUハイブリッドシステムを構築することだ。これに定員エンシスの公共部門総板能力を加え、大規模な音声およびテキストデータを安定的に処理できる次世代AIインフラを完成し、公共の苦情処理市場で技術革新とサプライチェーンの拡散を同時に推進する。

ハイパーエクセルは2023年に設立された生成AI加速半導体およびサーバーソリューション専門企業で、LLM推論に特化した半導体LPU(LLM Processing Unit)を開発している。 LPUはGPU比10倍以上の高い価格比性能と5倍水準の電力効率向上を目指す次世代AI半導体で、政府でも「AI半導体自立」の核心候補技術として注目されている。

定員エンシスは1978年からIT事業を始めた国内IT産業の煩雑さで、システムインフラ構築から統合、マイグレーションまでITコンサルティング能力と技術支援ノウハウを保有したIT専門企業だ。韓国ヒューレットパッカードの総板としてサーバー、ストレージなどハードウェアとソリューションを納品し、最近238億ウォン規模の国家AI事業用インフラ機器供給契約に参加する成果を収めた。

3社協力を通じて構築されるGPU+LPUハイブリッドシステムは、既存のGPUだけでは限界があった大規模な音声相談データとテキストデータの同時高速処理を可能にする。ハイパーエクセルのLPUがLLM推論作業を担当し、GPUが音声認識と自然言語処理を処理することで、システム全体の処理性能を画期的に向上させながらも、電力効率とコスト効率を同時に確保できるようになった。

キウォンテックは今回の協力を通じてソフトウェア専門性を基盤にハードウェア-ソフトウェア統合最適化ソリューション提供まで領域を拡張することになった。ハイパーエクセルのLPUベースのプラットフォームで「苦情e」が最適化されて駆動されることで、既存のコントラスト処理速度は30～50%向上し、運用コストも大幅に削減できると期待される。

ハイパーエクセルキム・ジュヨン代表は「LPUはLLMワークロードに最適化された次世代AI半導体で、苦情eのような実際の公共サービスに適用され、その価値を立証できるようになってとても嬉しい」とし、「今回の協力を通じて国産AI半導体技術の卓越性を実証し、公共分野AI転換の新たな標準を提示する。

定員エンシスのハン・ドクヒ代表は「設立以後蓄積したITインフラ構築ノウハウと最近の成果をもとに革新的なAIソリューションの安定的な運営基盤を提供することになって誇りに思う」とし、「国内技術基盤の完全自立型AIインフラ構築を通じて公共デジタルイノベーションをリードする」と強調した。

キウォンテクキム・ドンチョル代表は「今回の3者協力は国際標準基盤技術力と国産AI半導体の出会いで真の意味の技術自立を実現するきっかけ」とし、「苦情eが公共サービスイノベーションの新しい標準になるよう最善を尽くす」と明らかにした。

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