テソン、「グローバルRF・アナログ半導体企業」に半導体後工程洗浄装置供給

コスダック上場会社のテソン（代表キム・ジョンハク）は、グローバルRF・アナログ半導体企業A社にケミカル洗浄（Chemical Cleaning）設備の供給を確定し、半導体・アセンブリ工程装備市場進出を本格化すると24日明らかにした。

A社はモバイルデバイス、自動車戦場、IoT、通信インフラなど多様な分野にコアRFモジュールとアナログソリューションを提供するグローバル半導体企業だ。テソンの技術力と製造品質が国際基準で競争力を備えたという評価を受け、今回の供給決定はこれを立証する事例と解釈される。

ケミカル洗浄設備は、精度が求められる先端半導体・アセンブリ工程で核心機器の役割を果たす。テソンは今回のプロジェクトを通じて、高付加価値プロセス機器市場への参入はもちろん、今後同種ラインおよび後続プロセス供給拡大の可能性を確保した。

テソンは今回のプロジェクトを基点に新規顧客会社の確保、グローバルリファレンス強化、Wet-Line製品群の高度化など段階別戦略を推進し、半導体・アセンブリ事業を新たな売上軸に育成し、事業ポートフォリオ多様化による安定的な成長基盤を設ける計画だ。

テソン関係者は「今回のプロジェクトは、単純な装備供給を超えて半導体・アセンブリプロセス装備市場への本格的な拡張を意味する」とし「持続的な技術高度化と顧客多様化を通じて半導体分野を会社の新たな成長動力として育成する」と明らかにした。

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