ソクギョンエイティ、「東京ナノテック2026展」に参加

ナノ素材専門企業の石硬エーティが1月28日から30日まで日本東京で開かれた「東京ナノテック2026」展示会に参加し、同社の核心ナノ素材技術を披露したと3日明らかにした。

今回の展示会は新機能材料、GREEN MATERIALS、CONVERTECH、3DECOtech、WELL-BEING TECHNOLOGYなど5つの展示会が同時に開催された大規模素材専門イベントで、合計377社が参加し、3日間4万5,202人の訪問者が現場を訪れた。

석경에이티는 ▲5G・6G mmWave用 Hollow SiO2 ▲低屈折 Hollow SiO2 ▲LED光拡散フィルム用 Hollow SiO2 ▲高屈折素材 ▲Perovskite用SnO2 ▲10nm～5μm粒径のSiO2素材など様々な製品を展示した。特にHollow SiO2は、粒径別適用領域を細分化したポートフォリオを紹介し、差別化された競争力を強調した。 40～130nm区間は低屈折、40～300nmは断熱、700nm～1.5μmは光拡散、300nm～2μmは低誘電材料として活用可能である。

展示期間中、Nikko Chemicals、NSCM、DNP、Canon、Nippon Rikaなど日本の主要素材・製造企業と多数のミーティングが行われ、一部企業とはさらなる技術検討及び協議が予想される。ブース訪問客数は昨年日本観基準に比べて倍以上増加した。

訪問者は、ホロウSiO2の単分散製造技術と表面処理、中空度調整技術の完成度を高く評価した。また、半導体Packaging素材用大口径Silica製品に対する関心も高かった。

ソクギョンエイティは22年連続で日本のナノテック展に参加し、ブランド認知度を築いてきた。

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